工作原理
離子遷移譜 (IMS)是一種基于均勻電場(chǎng)中離子-分子相互作用的分析技術(shù)。該技術(shù)的主要優(yōu)點(diǎn)是: 結(jié)構(gòu)緊湊、靈敏度高 (ppb-ppt 級(jí)) 、響應(yīng)速度快 (毫秒范圍) 、常壓操作和分離異構(gòu)體的能力。傳統(tǒng)的 IMS 儀器主要由電離區(qū)、反應(yīng)區(qū)和漂移管三部分組成離子遷移譜儀示意圖
晶圓廠AMC 監(jiān)控
環(huán)境空氣 ppb 級(jí)別檢測(cè)
TA、CI?、F-、NH??、VOC
高靈敏度
與獵戶座 3100 結(jié)合,可以監(jiān)控 45 個(gè)端口
實(shí)時(shí)圖形軟件
非放射性等離子體電離源
離子遷移譜技術(shù)具有靈敏度高 (ppb 范圍) 、響應(yīng)速度快 (毫秒范圍) 、結(jié)構(gòu)緊湊、可在大氣壓下操作以及能分離異構(gòu)體等優(yōu)點(diǎn)。在這篇簡(jiǎn)短的報(bào)告中,我們展示了使用 IMS 檢測(cè)復(fù)化氫 (HCI) 和氟化氫 (HF) 的靈敏度和快速響應(yīng)
HCI和 HF 是摩爾質(zhì)量為 36.46 g/mol (HCI) 和 20 g/mol (HF) 的小分子。鹽酸和氣氟酸是醫(yī)藥、高分子、石油化工等工業(yè)中的重要化合物。這兩種化學(xué)物質(zhì)在半導(dǎo)體工業(yè)中也很重要.在許多半導(dǎo)體應(yīng)用中,需要在低 ppb 水平下監(jiān)測(cè) HCI 和 HF 的存在
將 60 ppb的HCI與85 ppb 的 HF 進(jìn)行比較。從右圖很明顯可見,這兩個(gè)化合物可以很容易地被 EIMS 區(qū)分IMS 的分離能力可以通過降低離子門脈沖的長(zhǎng)度來(lái)提高然而,分離度的提高會(huì)導(dǎo)致靈敏度的降低。另一方面,犧牲 IMS 的分辨能力可以提高靈敏度。所有這些修改都可以在軟件中輕松實(shí)現(xiàn),用戶可以方便地設(shè)置 HCI 和 HF 檢測(cè)的最佳參數(shù)。
技術(shù)參數(shù)
采樣點(diǎn) | 1-16-30-45 |
分析設(shè)置 | EIMS 可檢測(cè)的 TA、CI?、F?、NH4+和 VOC |
標(biāo)準(zhǔn)范圍 | 0-50,0-100 ppb |
采樣管的最大長(zhǎng)度 | 130米 |
設(shè)備條件 | 干燥壓縮空氣,110-115-230 Vac 50/60 Hz |
通訊接口 | 以大網(wǎng)端口、Modbus、Profibus |
安裝 | 19”機(jī)架安裝 |
摻雜物 | 取決于檢測(cè)到的氣體 |
軟件用戶界面 | 內(nèi)置控制軟件 |
操作溫度 | 5-45°C |
尺寸 | 機(jī)架19"4U L 500mm |
重量 | 取決于配置 |
獵戶座 3100 是半導(dǎo)體工業(yè)的完整 AMC系統(tǒng)
獵戶座 3100 是一個(gè)多點(diǎn)區(qū)域監(jiān)測(cè)系統(tǒng),依次將氣體吸入分析儀或通過氣體傳感器分析讀取濃度,采樣點(diǎn)數(shù)可根據(jù)用戶需求配置。獵戶座 3100 有報(bào)警和報(bào)告軟件,是依據(jù)多年的經(jīng)驗(yàn)開發(fā)的系統(tǒng)
獵戶座 3100 可使用以太網(wǎng)、Modbus.RS232/RS485 或可選 4-20mA 模擬模塊,最多可從4至6個(gè)分析儀或氣體傳感器輸出數(shù)據(jù)。每個(gè)分析器都有一臺(tái)內(nèi)部計(jì)算機(jī) (Linux OS)它可以無(wú)限期地存儲(chǔ)硬盤上的數(shù)據(jù),并通過數(shù)字(RS232)或以大網(wǎng)輸出將實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)發(fā)送給數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器。此外,該分析儀可以通過互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程控制。此功能允許用戶在任何可以訪問 internet 的地方使用 web 瀏覽器操作分析儀。此遠(yuǎn)程訪問允許對(duì)儀器進(jìn)行 bios 級(jí)控制,并提供無(wú)需現(xiàn)場(chǎng)即可獲取數(shù)據(jù)和診斷儀器操作的機(jī)會(huì)
應(yīng)用范圍
控制軟件可從多個(gè)不同位置采樣分析 TA、CI?、F?、NH4?、VOC等AMC 進(jìn)行自動(dòng)化的實(shí)時(shí)查看及操作。本軟件程序是專門為監(jiān)測(cè)和控制 DUV 光刻過程中空氣污染的半導(dǎo)體設(shè)備編寫的。該軟件靈活性較高,可應(yīng)用于任何需要一個(gè)或多個(gè)分析儀進(jìn)行多點(diǎn)采樣的工業(yè)設(shè)置。功能包括簡(jiǎn)單的報(bào)警交互控制、數(shù)據(jù)記錄、歷史趨勢(shì)和 Windows 環(huán)境中的基本分析器功能。
軟件可以快速查看屬于當(dāng)前操作間的測(cè)量點(diǎn);由于這些點(diǎn)的分析是 EIMS 完成的,每個(gè)測(cè)量點(diǎn)的目標(biāo)氣體都是同步檢測(cè)的。對(duì)于每個(gè)測(cè)量點(diǎn),可以看到上一次測(cè)量的值,而當(dāng)前測(cè)量點(diǎn)會(huì)突出顯示所在的狀態(tài)。此外,還可以查看系統(tǒng)是在手動(dòng)模式還是自動(dòng)模式下測(cè)量,是在測(cè)量樣本還是在后臺(tái)階段,自動(dòng)序列的哪個(gè)點(diǎn)正在掃描,以及一個(gè)進(jìn)度條,指示序列的下一步還剩多少。
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